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研磨抛光专用氧化铝
研磨抛光专用氧化铝

详细内容

研磨抛光专用氧化铝,粒径分布集中,α相转晶完全,原始晶体小,具有极其稳定的物理、化学性质,在研磨和抛光过程中能产生良好的效果,可以满足各种抛光用途的需求。

产品技术指标

型号

XH-03

XH-05

XH-08

XH-10

晶相

α

α

α

α

D50粒径

0.3 um

0.5 um

0.8 um

1 um

原晶粒径

0.4 um

0.6 um

0.6 um

0.8 um

纯度

99.9 %

≥99.9 %

≥99.9 %

≥99.9 %

比表面积

1.2 /g

1 /g

0.9 /g

0.8 /g

Na

2200 ppm

2200 ppm

2200 ppm

2200 ppm

Si

150 ppm

125 ppm

100 ppm

100 ppm

Fe

150 ppm

150 ppm

150 ppm

150 ppm

Ca

200 ppm

175 ppm

175 ppm

175 ppm


产品性能及应用

我司提供不同晶粒尺寸的抛光工业用氧化铝,杂质含量低,颗粒聚集体具有破碎性质,在水中悬浮性能好,不结块。抛光专用氧化铝具有粒度分布范围窄、硬度高、磨削力强、抛光效率高等特点,可以作为抛光蜡,抛光液或抛光膏的骨料,广泛用于各种等级的精细研磨、抛光,特别适合用于不锈钢、铝合金、蓝宝石等硬质材料的磨削、表面修整和抛光处理,以及用于各种精密合金、精密滚珠轴承、模具等金属表面、电子光学与激光晶体、各种石材、塑料、漆面等的抛光。

包装:1kg20kg

存储和运输:存放于阴凉干燥密闭处,远离热源。按一般化学品运输。


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